Présentation de la marque Atomic Layer Downstream Etching
Déposée le 10 octobre 2011 par la Société par Action Simplifiée (SAS) Nanoplas
auprès de l’Institut National de la Propriété Industrielle (Dépôt Electronique Paris),
la marque française « Atomic Layer Downstream Etching » a été publiée au Bulletin Officiel de la Propriété Industrielle (BOPI) sous le numéro
2011-44 du 4 novembre 2011.
Le déposant est la Société par Action Simplifiée (SAS) Nanoplas domicilié(e) Centre Scientifique d'Orsay Bât 503, BP01 - 91401 - Orsay Cedex - France.
Lors de son dépôt, il a été fait appel à un mandataire, Nanoplas domicilié(e) Centre Scientifique d'Orsay Bât 503, BP01 - 91401 - Orsay Cedex - France.
La marque Atomic Layer Downstream Etching a été enregistrée au Registre National des Marques (RNM) sous le numéro 3865359.
C'est une marque semi-figurative qui a été déposée dans les classes de produits et/ou de services suivants :
Enregistrée pour une durée de 10 ans, la marque Atomic Layer Downstream Etching est expirée depuis le 10 octobre 2021.
Nanoplas a également déposé les autres marques suivantes : RADIKAL , NANOPLAS
Nanoplas, SAS - Centre Scientifique d'Orsay Bât 503, BP01 - 91401 - Orsay Cedex - France
Nanoplas - Centre Scientifique d'Orsay Bât 503, BP01 - 91401 - Orsay Cedex - France
Publication - Publication le 4 nov. 2011 au BOPI 2011-44
Enregistrement sans modification - Publication le 3 févr. 2012 au BOPI 2012-05
Produits chimiques destinés à l'industrie, aux sciences, à la photographie, ainsi qu'à l'agriculture, l'horticulture et la sylviculture ;
Machines pour traitements de surfaces ;
Appareils et instruments scientifiques (autres qu'à usage médical), nautiques, géodésiques, photographiques, cinématographiques, optiques, de pesage, de mesurage, de signalisation, de contrôle (inspection), de secours (sauvetage) et d'enseignement.
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